日立高科技分析介绍了OE750,一个新的光学发射光谱仪验证传入的材料规格的金属加工设施。它涵盖整个光谱的元素在金属和低检测极限。新的光学概念,有四个专利,使用CMOS探测器技术背后的高水平的OE750的光学分辨率和大动态范围。结果,这个新的分析器有很宽的波长范围,这意味着它可以测量元素的整个范围内金属ppm水平较低。分析器可以满足有关标准和规范的要求,如ASTM E415测试方法对碳和低合金钢和ASTM E1086不锈钢的标准测试方法分析了引发原子发射光谱法。
OE750的新光学设计的一个优点是快速启动时间。仪器是准备使用在不到一个小时,由于低容量的光学。这个艾滋病高吞吐量的生产,设备需要检查材料供应的100%。除了新的光学设计、OE750有一个新的密封火花站在优化层流;这样可以减少氩气消耗,减少污染的可能性,减少维护要求。加以系统与低压氩气净化减少泵的使用。这降低了泵的能耗90%,使一个无油设计,增加可靠性和仪器正常运行时间。
除了新硬件,日立年级等新的OE750包括软件数据库,其中包括339000多1200万条记录了来自69个国家的材料和标准。作为一个选项,它带有一个程控/ LIMS包使一个简单的过程的有效监控仪表和过程控制。这可以用于IATF 16949等符合要求标准。
