提高拉曼成像的空间分辨率,发明“tip-enhanced拉曼光谱”(参数),从而达到空间分辨率衍射极限以下。半岛综合体育官方APP下载德甲关键,金属纳米级范围内的光一个纳米级体积略高于样本。光与样品表面的分子成像是通过分析散射光执行的。
参数已成功用于分析化学成分和表面缺陷样品在纳米级分辨率。然而,在成像过程中,nanotip往往由于不可避免的热漂移和振动环境条件下波动,造成失焦的样本或nanotip之间的错位和焦斑,或两者兼而有之。这导致相当大的散射信号扭曲。为了避免这种情况,参数成像需要30分钟的时间窗口内完成任何样本的限制,阻止成像µm大于12与纳米级分辨率。
良博士领导的研究小组来自日本,加藤,指定文激起了光子学研究所的助理教授德岛大学教授和副教授Takayuki Umakoshi Prabhat Verma从大阪大学,现在已经开发,第一次,一个稳定的关键系统,不仅限于一个成像时间短窗口。团队成功地展示了其功能,成像纳米缺陷在一段6 h micrometre-sized,二维(2 d)二硫化钨(WS2电影——材料常用的光电器件。“我们的新光学nano-imaging系统使描述大型WS的缺陷分析2层在高像素的分辨率下降到10纳米光信号没有任何重大损失”,加藤博士说。
为了弥补漂浮在较长时期内,团队开发了一个反馈系统,跟踪聚焦光源的位移,并相应地调整聚焦平面的位置。的焦点位置光源跟踪测量的位移反射激光引导光束直射入显微镜。然后重点是稳定与piezo-controlled客观扫描仪每当感官系统漂移或改变焦点位置的光源。
稳定nanotip,团队设计了一个laser-scanning-assisted提示漂移补偿系统。在这种情况下,galvano-scanners把激光点的图像周围的金属nanotip正如它接近样品表面。这张照片是一个亮点,表明nanotip的位置。一旦在某个特定像素进行了测量,激光点的形象在nanotip捕获了。然后搬到激光点匹配的新职位nanotip在这个形象。这个流程将继续在整个成像过程,确保nanotip仍以恒定的位置。
通过实现这些修正,团队能够形象一张二维的WS2(见图片)扫描面积1×4µm2。与一个12×长比传统的成像,成像时间窗可以发现独特的缺陷遗漏在传统的成像。他们还表明,缺陷密度更大的WS2样品(与设备尺度)高于报道对小样本。
这项研究可能会打开大门精确,高分辨率成像不仅光电设备,而且生物样本。“我们新的drift-compensated发疯显微镜不仅可以评估设备材料的表面性质更好,而且还允许我们研究生物过程机制等基础疾病的发展。反过来,这可能有助于开发新颖的临床方法和治疗”,Umakoshi博士推测。这些当然是一些激动人心的可能性考虑!
